#2nm工艺

突破2nm芯片设计瓶颈！SCALE框架利用自监督视觉语言模型解决布线设计规则违例

随着半导体工艺迈向2nm以下节点，芯片局部布局布线的DRV修复愈发困难。本文介绍由多位学者提出的SCALE框架，通过自监督约束感知布局生成技术与微调视觉语言模型，将先进制程下的DRV修复率提升高达25%。